近日公司子公司創微微電子（常州）有限公司（以下簡稱：創微微電子）在競標中技術與商務綜合評估領先，中標半導體碳化硅整線濕法設備訂單并順利完成合同簽署。

此次中標，標志著創微微電子6/8吋槽式及單片全自動濕法刻蝕清洗設備已經覆蓋了碳化硅器件刻蝕清洗全段工藝，具備替代進口設備的能力。自2020年創立以來，創微微電子依托捷佳偉創集團平臺，共享人才與技術，專注于整合國內外濕法技術與資源，引進臺灣地區、韓國、日本等專家團隊，不斷攻堅克難，自主創新，成績斐然。

創微微電子的6/8寸全自動濕法刻蝕清洗設備優勢明顯。第一，設備有優異的顆粒去除能力、金屬污染控制能力、刻蝕均勻性控制能力，相關性能指標對標國際一線大廠；第二，設備國產化零部件占比高并已獲得多家一線FAB廠量產驗證，具有成本優勢；第三，設備擁有自主開發軟件，可根據客戶工藝需求定制設備排程，實現客戶產能最大化。

未來，創微微電子將繼續以“開發滿足客戶未來需求的技術及產品”為核心戰略，為客戶提供優質的集成電路濕法設備，助力中國半導體產業的發展。